Простийпошук |
Розширенийпошук |
Покажчики
|
Професійний пошук |
Рубрикатор НБУВ |
Розподілений пошук |
Бази даних
Наукова періодика України - результати пошуку
Книжкові видання та компакт-дискиЖурнали та продовжувані виданняАвтореферати дисертаційРеферативна база данихНаукова періодика УкраїниТематичний навігаторАвторитетний файл імен осіб
 |
Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер "Mozilla Firefox" |
|
|
Повнотекстовий пошук
| Знайдено в інших БД: | Реферативна база даних (4) |
Список видань за алфавітом назв: Авторський покажчик Покажчик назв публікацій  |
Пошуковий запит: (<.>A=Полозов Б$<.>) | |||
|
Загальна кількість знайдених документів : 3 Представлено документи з 1 до 3 |
|||
| 1. | 
Максименко Л. С. Модуляционная поляриметрия полного внутреннего отражения, нарушенного алмазоподобными пленками [Електронний ресурс] / Л. С. Максименко, О. Н. Мищук, И. Е. Матяш, Б. К. Сердега, Е. Г. Костин, Б. П. Полозов, О. А. Федорович, Г. К. Савинков // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. - 2013. - № 1. - С. 3-8. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/TKEA_2013_1_2 Исследованы алмазоподобные пленки, специально приготовленные при различных технологических условиях. Введен параметр ρ, называемый поляризационной разностью. Из спектральных характеристик параметра ρ обнаружено, что взаимодействие электромагнитного излучения с электронной системой образцов, которое происходит в используемом спектральном диапазоне, состоит из двух поверхностных резонансов - локального и поляритонного, различающихся частотой и временем релаксации. Сделан вывод о том, что соотношение амплитуд резонансов определяется структурными свойствами образцов, что свидетельствуют о перспективности метода модуляционной поляриметрии для диагностики структурной однородности композитных нанокластерных пленок.Досліджено алмазоподібні плівки, спеціально приготовлені за різних технологічних умов. Запропоновано параметр ρ, що названий поляризаційною різницею. Зі спектральних характеристик параметра ρ виявлено, що взаємодія електромагнітного випромінювання з електронною системою зразків, яке відбувається у використовуваному спектральному діапазоні, складається з двох поверхневих резонансів - локального та поляритонного, що різняться частотою та часом релаксації. Зроблено висновок, що співвідношення амплітуд резонансу визначається структурними властивостями зразків, що свідчить про перспективність методу модуляційної поляриметрії для діагностики структурної однорідності композитних нанокластерних плівок.This article presents research results on diamond-like films produced under different technological conditions. The parameter ρ - polarization difference - has been introduced. It has been found from spectral features of the parameter ρ that the interaction of electromagnetic radiation with the electronic system of specimens, which occurs in the used spectral range, consists of local and polariton surface resonances, differing in frequencies and times of relaxations. The autors concluded that the correlation in resonance intensity is defined by the structural characteristics of the specimens. These results show that modulation polarimetry is a perspective technique for diagnostics of the structural homogeneity of composite nanocluster films. | ||
| 2. |
Гладковский В. В. Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе "Алмаз" для синтеза углеродных алмазоподобных пленок [Електронний ресурс] / В. В. Гладковский, Е. Г. Костин, Б. П. Полозов, О. А. Федорович, В. А. Петряков // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. - 2014. - № 5-6. - С. 39-45. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/TKEA_2014_5-6_7 Представлены результаты исследований влияния на температуру подложки параметров высокочастотного разряда в плазмохимическом реакторе "Алмаз", разработанном и изготовленном в Институте ядерных исследований. Определено время выхода на равновесную температуру подложки при различных параметрах ВЧ-разряда и параметрах основного нагревателя. Установлено, что в условиях данного исследования при температурах подложки выше 600 °С влияние ВЧ-разряда на повышение ее температуры практически отсутствует.Досліджено вплив на температуру підкладки параметрів ВЧ-розряду в плазмохімічному реакторі "Алмаз", розробленому та виготовленому в Інституті ядерних досліджень. Встановлено час виходу на рівноважне значення температури підкладки за різних параметрів ВЧ-розряду та параметрів основного нагрівача. Встановлено, що в умовах цього дослідження за температур підкладки вище 600 °С вплив ВЧ-розряду на підвищення її температури практично відсутній.The paper presents the research results on the device for obtaining diamond-like films from gas phase, constructed and tested in the Institute for Nuclear Research of the National Academy of Sciences. The device is based on a high-frequency (HF) discharge (13,56 MHz) into controlled crossed magnetic and electric fields. The discharge is excited in H{\dn\fs8 2}+CH{dn\fs8 4} or H{\dn\fs8 2}+CH{\dn\fs8 4}+Ar mixtures in different proportions. Working pressure in the chamber is 10{\up\fs8 –1} - 10{\up\fs8 –2} Torr. From the obtained results, the authors determine the time period for establishing of equilibrium substrate temperature at different HF discharge and main heater parameters. HF discharges, in the conditions of this study, at substrate temperatures above 600 °C have virtually no influence on the temperature rise of the substrate. In addition, a new heater is proposed in order to increase the attainable temperature and reduce the time for establishing the equilibrium substrate temperature. A fehral heater can not heat the substrate to temperatures above . | ||
| 3. |
Полозов Б. П. Влияние плазмохимического травления на структуру поверхности кремниевых пластин фотоэлектрических преобразователей [Електронний ресурс] / Б. П. Полозов, О. А. Федорович, В. Н. Голотюк, А. А. Мариненко, Д. В. Лукомский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. - 2006. - № 2. - С. 52-55. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/TKEA_2006_2_15 | ||
Попередній перегляд: 
Реферативна БД
 |
| Відділ наукової організації електронних інформаційних ресурсів |
 Пам`ятка користувача |